Die Zahnraddosiersysteme ermöglichen eine präzise Dosierung mit konstanter Förderrate. Durch zwei unabhängig angetriebene Zahnradpumpen kann das Mischungsverhältnis variabel eingestellt werden.
Die Zahnraddosieranlagen der Serie G-MIX decken ein breites Spektrum an Anwendungen und Materialien ab. Sie eignen sich zum Dosieren und Mischen von Epoxiden, Polyurethanen und Silikonen und können sowohl für kleinste als auch für sehr große Dosiermengen ausgelegt werden. Die Mischung erfolgt meist durch statische Mischer, falls benötigt können aber auch statisch-dynamische Mischer oder dynamische Mischer eingesetzt werden.
Die Materialbereitstellung erfolgt aus Fallbehältern, Materialdruckbehältern oder direkt aus dem Originalgebinde.
Optional verfügbar sind Extras wie Rührwerk, Materialbeheizung, Vakuumentgasung etc.
Die Anlagen können von Hand betrieben oder auch in automatisierte Fertigungsabläufe integriert werden.
die Pumpenreihe lubDP ist zur Förderung von Schmierstoffen aus dem Originalgebinde konstruiert.
Version: lubDP1c
Beschreibung: Pumpe zur Förderung a...
die Pumpenreihe lubDP ist zur Förderung von Schmierstoffen aus dem Originalgebinde konstruiert.
Version: lubDP200-56-1
Beschreibung: Fasspumpe für 1...
die Pumpenreihe lubDP ist zur Förderung von Schmierstoffen aus dem Originalgebinde konstruiert.
Version: lubDP1c
Beschreibung: Pumpe zur Förderung a...
die Pumpenreihe lubDP ist zur Förderung von Schmierstoffen aus dem Originalgebinde konstruiert.
Version: lubDP200-56-1
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